下载北极星学社各位吧友是否遇到过这个情况：精处理高速混床出口水质PH、SC都正常，唯独SiO2值偏高，树脂随机组负荷波动。正常运行时的SiO2值在1.0ug/L左右，现在都快超10个了，还恳求各位有经验的师傅解解惑
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问题没有了就好! 展开
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谢谢了。。。:victory: 展开
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谢谢分享！ 展开
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<blockquote>TPRI—2010 发表于 2015-8-22 22:04 /common/back.gif</br>根据你的描述，应该是差不多在高混运行周期的后期才出现二氧化硅突然升高。如果高混内部树脂混合不均匀，即 ...</blockquote> 谢谢您的回复，经过这段时间的运行观察，这一问题连续出现两次之后就没有再发生了。 展开
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根据你的描述，应该是差不多在高混运行周期的后期才出现二氧化硅突然升高。如果高混内部树脂混合不均匀，即上层阴树脂多，下层阳树脂多，但此时不会有明显的分层现象。这时，高混对阴离子和二氧化硅的去处能力比较弱，容易出现硅超标的情况。此外，高混中阴树脂比例越小，越容易出现这种情况。上述解释不一定完全正确，您可以参照你们具体情况对照分析一下。 展开
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<blockquote>TPRI—2010 发表于 2015-8-12 10:11 /common/back.gif</br>精处理高速混床出口水质PH、SC在整个运行周期内都比较小吗？我觉得你们可以考虑一下高混内部偏流的可能性!</blockquote> 现在我们厂凝结水pH控制在9.1左右，SC：3.5-4us/cm，这一问题在同一混床、不同编号树脂条件下连续发生了两次。出现SiO2值突然升高时，混床制水量差不多在13万吨，pH约6.2，SC月0.06us/cm。树脂输入时观察未出现树脂分层现象，在线仪表与人工取样测量值基本相同，因再生条件一致而唯独这一混床出现此类问题，因此可以排除再生系统出问题的可能性。如果是混床偏流的情况，电导变化应该会比较明显吧？除此而外也找不到其他原因，问题还可能是出在混床本身吧 展开
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来看看有没有大神解决 展开
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精处理高速混床出口水质PH、SC在整个运行周期内都比较小吗？我觉得你们可以考虑一下高混内部偏流的可能性! 展开
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