直流磁控溅射电源分类

溅射的分类，从简单到复杂，主要有DC溅射、直流磁控溅射电源、反应溅射、离子束溅射、磁控溅射等。其中直流磁控溅射电源应用较广泛的是各种薄膜的制备，如金属、半导体、合金、氧化物、化合物半导体等。以下是其中的几个。直流磁控溅射电源 1.DC溅射DC溅射设备的主要部件是溅射室、电极、真空系统和气体通道。溅射靶和薄膜沉积基底分别放置在正电极和负电极上。在正负电极之间施加高电压以产生等离子体，这导致氩辉光放电。等离子体中的电子在电场的作用下加速到正极，在运动过程中与氩原子碰撞，产生Ar离子和电子。带负电荷的电子和带正电荷的Ar离子在电场作用下加速到正负能级，电子与氩原子再次碰撞，形成新的离子，Ar离子与安装在负电极上的靶材碰撞。适当能量的Ar离子轰击靶材，使靶材原子从靶材表面分离，沉积在基底上形成薄膜。2.直流磁控溅射电源直流磁控溅射电源的方法既可以溅射导体也可以溅射绝缘体，解决了DC溅射不能溅射绝缘体的缺点。直流磁控溅射电源将在靶上形成负偏压，使得溅射过程继续进行。当射频电压施加到目标上时，一个射频周期将被分成两个部分。在周期的前半段，由于电子的质量远小于Ar离子的质量，所以会以非常快的速度飞向靶材，与靶材表面的Ar离子发生中和反应，使靶材附近的电位降低。同时，大量电子在靶处迅速积累，电位降低，形成负电位，这样即使在正半周也会吸引Ar离子加速靶的运动，轰击靶。在负半周期中，溅射发生的速率是上半周期的几倍。因此，直流磁控溅射电源不仅发生在负半周，也发生在正半周，可以显著提高镀膜效率。但在直流磁控溅射电源的过程中，会产生大量的二次电子，二次电子会飞向基板，使基板温度升高，同时使基板上的涂层带电，损坏基板。3.离子束溅射离子束溅射是一种相对较新的溅射方法。在这种溅射方法中，可以有一个或两个离子源。相应地，离子束溅射法可以分为一次离子束溅射和二次离子束溅射。在一次离子束溅射中，离子束直接由靶膜组分离子组成，其能量较低，因此到达基片后沉积成膜。二次离子束溅射中的离子束由高能惰性气体离子(Ar离子)组成，轰击靶，将靶原子或原子团沉积在基片上。该结构的特征在于具有独立于靶和衬底的两个离子源。离子源1发射Ar离子，离子源2的主要作用是调控沉积的薄膜在某些方面表现出更好的性能。离子束溅射可以解决衬底温升的问题。另外，通过控制离子束的种类和能量，很容易制备各种成分的薄膜，特别适合制备多成分薄膜。我是爱分享光电知识的——跃迁光电，希望本篇文章能对大家有所帮助。 “跃迁光电”是一站式光电产品网络商城。厂家不但生产高压直流电源，还可以根据客户的需求进行开发设计，量身定制高压直流电源。同时“跃迁光电”的产品还具有体积小、使用简单、功能多、品种齐全、保护完善、控制灵活的优势。截止到2023年，“跃迁光电”的产品已经扩大到12个品类，产品应用于科学、环保、工业等多个领域。现在“跃迁光电”的总部设在北京，同时在上海、苏州都设有办事处，“跃迁光电”的销售网络已经遍及全国。同时“跃迁光电”的产品也已经销往欧洲、美国、日本等国。“科技打造精品，诚信铸就未来”，跃迁人将为电源行业的发展和应用而不懈努力，——欢迎与我们联系洽谈。