太阳能光伏硅片清洗设备的技术要点及原理

太阳能光伏硅片清洗设备的技术要点及原理 1.技术参数 电源电压：220V超声波功率：12KW超声波频率40KHz加热功率：6kw/槽 2.性能特点 2.1、利用超声波空化作用，并且设计各槽上下抛动，使污垢彻底脱落； 2.2、根据清洗工艺设置超声波电控箱，PLC全程控制，操作简便； 2.3、槽子底部设有接渣口，沉淀污垢及时排渣； 2.4、适当加入弱碱，加快清洗的速度，提高清洗的效率太阳能光伏专用设备，包括制绒酸洗设备、去磷硅玻璃（PSG）、扩散炉、刻蚀机、硅片清洗机、硅芯硅料清洗机等， 3.清洗范围：半导体硅片、太阳能电池硅片、晶体、电阻、电容、PCB板、IC芯片、接插件、连接件、转接器、硅片、三极管、二极管、电子线路板、电脑主板、压电陶瓷片、显象管、电真空器件等电子器件的生产加工过程工序间的清洗。 4.清洗原理 借助于表面活性剂的润湿、渗透、乳化、增溶、分散等作用,使沾污在Si片表面的附着力削弱,再施以加热、超声波等物理方法,使沾污脱离Si片表面,而进人清洗液中被乳化、分散开。在清洗液中超声清洗Si片表面其原理可用“空化”现象来解释:超声波振动在液体中传播的音波压强达到一个大气压时,其功率密度为O.35W/cm,这时超声波的音波压强峰值就可达到真空或负压,但实际上无负压存在,因此在液体中产生一个很大的压力,将液体分子拉裂成空洞一空化核。此空洞非常接近真空,它在超声波压强反向达到最大时破裂,由于破裂而产生的强烈冲击将Si片表面的污物撞击下来，而这种由无数细小的空化气泡破裂而产生的冲击波现象称为“空化”现象。在超声清洗中,表面活性剂也发挥着重要作用,通过表面活性剂的乳化、分散作用,可以显著削弱沾污对Si片表面的吸附,从而获得好的清洗效果。