薄膜沉积是在半导体的主要衬底材料上镀一层膜。这层膜可以有各种各样的材料，比如绝缘化合物二氧化硅，半导体多晶硅、金属铜等。用来镀膜的这个设备就叫薄膜沉积设备。薄膜制备工艺按照其成膜方法可分为两大类：物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积（CVD），其中CVD工艺设备占比更高。化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition简称CVD)是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固

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星友3661 精华老贴03月28日

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GBT50378_2019_绿色建筑评价标准

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星友1890 电力资料库03月26日

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兄弟们干活的时候也要注意安全

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星友8009 电力江湖03月21日

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光伏电站运行规程

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洪*大 光伏供求信息圈01月19日

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V18529522473 检测环评交流圈2023年09月22日

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