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磁控溅射镀膜简称PVD镀膜,是真空镀膜的一种重要方式,其磁控溅射原理及薄膜生产原理介绍如下:一:磁控溅射原理用高能粒子(通常是由电场加速的正离子)轰击固体表面,固体表面的原子,分子与入射的高能粒子交换动能后从固体表面飞溅出来的现象称为磁控溅射。溅射出来的原子(或原子团)具有一定的能量,它们可以重新沉积凝聚在固体基片表面上形成薄膜,称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离,其正离子在电场作用下高
中频电源是一种电源设备,广泛应用于现代工业生产中,尤其是金属热加工和焊接领域。中频电源的重要性在于它能够将交流电转换为高频电能,为高频感应热处理机器提供充分的能源支持。这项技术的发展让工业生产效率明显提高,为很多行业带来了亮眼的业绩表现。实际上,中频电源在现代工业生产中的应用非常广泛。无论是传统的金属焊接领域,还是现代轨道交通、汽车、电力、钢铁等行业中,均有着不可替代的作用。其稳定性和可靠性得到了
直流磁控溅射电源在高频变换模式下工作,直流输出且电源电流的调整通过改变高频变换的脉冲宽度来实现.在以往的直流磁控溅射电源壳体技术中,在组装直流磁控溅射电源壳体时需要组合螺钉和螺母进行固定,在固定后需要拆卸的情况下需要旋转螺母进行旋松,其中固定的螺钉较多例如,在清扫散热罩面板时,需要卸下许多螺钉,另外,尘埃容易蓄积在散热罩上,需要反复安装和卸下,这样,螺钉在多次旋转后容易产生缺损,是受力情况难以旋转
高功率脉冲磁控溅射电源使用矩形波电压的脉冲电源代替传统的直流电源进行磁控溅射沉积。 高功率脉冲磁控溅射电源技术可以有效地抑制电弧的产生,消除由此产生的薄膜缺陷,同时提高溅射沉积速度,降低沉积温度等一系列显着的优点。 脉冲可分为双向脉冲和单向脉冲,双向脉冲在一个周期内存在正电压和负电压两个阶段。 在负电压带,高功率脉冲磁控溅射电源通过靶材的溅射,在正电压带,通过电子方式中和靶材表面积累的正电荷,净
1、中频感应加热电源磁场从0.1MHz左右到300MHz左右的频率范围内,所产生的磁场,其磁场强度超过3毫高斯,才对人体有害,90MHz至300MHz的磁场伤害大,而越向下,越接近0.1MHz的磁场,伤害越小,到0.1MHz以下磁场的伤害问题,就更加微不足道了。当然在有害范围其强度在3毫高斯以下,一般而言被视为安全范围。2、电磁波则90MHz到300MHz的电磁波伤害大,300MHz以上愈靠近12
中频电源的主要特点有以下几点:一、先进的重复启动功能,实现100%的成功启动 启动方式采用它激转自激形式的扫频式零压软启动方式,在整个启动过程中,频率调节系统和电流,电压调节闭坏系统,时刻跟踪负载的变化,实现理想的软启动,这种启动方式对可控硅冲击小,利于延长可控硅的使用寿命,同时具有轻重负荷均易启动的优点,尤其是炼钢炉满炉、冻炉均可轻易启动。二、尖端的技术,卓越的节能效果 控制电路采用了微电脑恒功
中频电源主电路合闸有手动和自动两种。对于自动合闸的系统,应该先将电源线暂时断开,以确保主电路不会合上。接通控制电源后,可以作下面几个方面的检查。1.将示波器探头接在整流晶闸管的门极和阴极上,示波器置于电源同步,按下启动按钮后即可看到触发脉冲波形,应为双脉冲,幅度应大于2V。按一下停止按钮,脉冲将立即消失。重复六次,将每个晶闸管都看一下,如果门极没有脉冲,可以将示波器的探头移到脉冲变压器的原边看一下
中频电源是一种静止变频装置,将三相工频电源变换成单相电源。对各种负载适应力强、适用范围广主要应用于各种金属的熔炼、保温、烧结、焊接、淬火、回火、透热、金属液净化、热处理、弯管、以及晶体生长等。标准输出功率系列为:30kW~4000kW标准配置熔炼炉系列为:5kg(30kW)~5000kg(4000kW)标准振荡频率系列为:400Hz~10kHz中频感应加热技术是通过电磁感应原理及利用涡流对工件进行
1、降低孔隙率,形成的核比生长速度快,促进核细化。2、以提高结合力,因此钝化膜的击穿,促进在基底和涂层之间的强键。3、为了提高覆盖范围和分散性,高的负电势,使得阴极钝化普通电镀沉积位点可以也因为带来了“焦烧”“树枝状”沉积缺陷离子沉积的过度消耗的形状复杂的零件的突出部减速,是对于给定的涂层性质(例如,色彩,多孔性等)得到可减少到1/3 1/2〜,节省材料的原始厚度。4、降低涂层的内应力,改善涂层的
在粒子加速器中,离子束的能量分布和空间分布等特性对加速器的性能和控制效果起着至关重要的作用。其中,高压电源可以通过控制输出电压和电流等参数,直接影响离子束的能量分布和空间分布。首先,控制高压电源的电压和电流可以直接影响离子束的加速速度和能量分布。通过改变高压电源的输出电压和电流,可以实现对离子束的加速和减速,从而实现控制离子束的速度和能够达到的能量范围。在这个过程中,高压电源的稳定性和精度对能量分
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