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1) 灭弧速度快.在主弧轰击时采用20%的占空比,使工件上所施加的高偏压可以自动 "过零".切断对已经形成电弧的供电,使电弧自动熄灭,不会形成连续的大弧光烧伤工件.2) 工件温升低.由脉冲偏压是间断供电,工件只是在"占空"的时段内受到吸引过来的离子轰击,在不导通的时段内工件不受离子轰击,能减少总的平均能量输入,因此工件温度比采用直流电源时连续受到离子轰击的温度低.在高速钢等500℃左右回火的工模具
中频磁控溅射靶材的利用率可以作为磁控溅射源工程设计和生产工艺成本核算的一个参数,到2012年为止,还没有关于中频磁控溅射靶利用率的专门或系统研究的报道,但从理论上探讨磁控溅射靶利用率的近似计算是有实际意义的,对于直接冷却的静态矩形平面靶,即磁体之间没有相对运动,直接与冷却水接触的靶,其利用率(较大值)数据大多在20%~30%左右(间接冷却靶相对更高,但其刻蚀工艺与直接冷却靶相同,不做特别讨论),大
磁控溅射是一种常用的薄膜制备技术,通过在真空环境下将靶材表面的原子或分子以想要的方式释放出来,沉积在基材上形成薄膜。而磁控溅射可根据使用的电源频率,分为直流溅射、中频溅射和射频溅射。1. 直流溅射(Direct Current Sputtering):使用直流电源对靶材进行电离,产生的电子和离子在靶表面形成等离子体,离子被加速并轰击靶材表面,将原子或分子剥离出来沉积在基材上。这种方法简单易行,设备
偏压电源(Bias power supply)是真空电弧离子镀和其他真空物理气相沉积设备的重要组成部分,在真空离子涂层中,偏置电源的好坏对薄膜质量起着至关重要的作用。偏压电源是涂层过程中应用于基板的负电压。偏压电源的阳极连接到真空室。1.提高真空等离子体中带电粒子的能量,轰击电镀的工件表面,使高能粒子碰撞后获得新的表面,从而提高后续沉积膜层的结合力。2.通过偏压电源轰击,在膜层和气体之间形成两者兼
中频电源的工作原理是由三相桥式全控整流电路将交流电整流为直流电,电抗器经过平滑后变为直流电。采用单相逆变桥将直流电流反向为一定频率(1000~8000HZ)的单相中频电源。负载由一个具有感应线圈和一个国家补偿电容主要组成并联谐振电路(也可以通过串联,一般IGBT电源设计采用串联谐振,当然IGBT电源也可以选择采用基于并联谐振)。在正常情况下,中频电源的故障根据故障现象可分为完全无法启动和启动后无法
说起电源,可能在座的各位读者都十分的熟悉,可是大家听说过偏压电源吗?偏压电源是在中空环境中电流离子镀,或者是在其他的真空与气相沉积设备中的一个相对而言地位比较重要的铸件,其在镀膜工艺流程中为工件提供一个偏压作用。而在真空离子镀膜的过程中,特别是对带电离子的镀膜作用,不管是工具镀还是装饰镀偏压电源,它的好坏往往决定了成膜的质量,起到了一个相当关键的作用,接下来大家谈谈偏压电源它的特点以及相关的作用。
粒子加速器是一种重要的加速器系统,用于将带电粒子(如离子、原子核等)加速至高束流强度,并用于研究、医疗等领域。由于离子束的能量和空间分布的制备过程受高压电源的控制,因此,高压电源的快速响应和稳定性对粒子加速器的加速控制和应用效果具有至关重要的影响。高压电源的快速响应对粒子束的加速和控制具有重要作用。粒子加速器需要能够快速响应控制粒子束的参数,如中性束流的束流形状、粒子束能量的分布等。粒子束在通过加
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语缓则贵,行缓则安,事缓则圆。在遇到不好解决或不好决断的事,不妨让它慢下来,等一等,也许自然就解决了。今天说说循环水系统,因为循环水系统形式多样,这次说的是传统的闭式循环水,应该和大多数电厂的差不多:一、 循环水系统作用:将冷却水塔的水通过循环水泵升压后通往凝汽器以冷却汽轮机的排汽以及向机组开式冷却水系统各主、辅机提供冷却水,并供给脱硫、输煤部分工业用水。二、 系统流程:三、几个主要设备:1、循
风能不会像常规能源与核电一样存在环境污染的问题。平均每安装一台1兆瓦的风机每年可以减排2000吨二氧化碳,10吨二氧化硫和6吨二氧化氮。风电技术日 趋成熟, 经济性日 益提高, 成本已接近煤电, 低于油电和核电;风电场建设工期短,建设灵活,可以建立在交通不便的边远地区和沿海岛屿。
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