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溅射的分类，从简单到复杂，主要有DC溅射、直流磁控溅射电源、反应溅射、离子束溅射、磁控溅射等。其中直流磁控溅射电源应用较广泛的是各种薄膜的制备，如金属、半导体、合金、氧化物、化合物半导体等。以下是其中的几个。直流磁控溅射电源 1.DC溅射DC溅射设备的主要部件是溅射室、电极、真空系统和气体通道。溅射靶和薄膜沉积基底分别放置在正电极和负电极上。在正负电极之间施加高电压以产生等离子体，这导致氩辉光放电
偏置电源工作在二次高频转换模式，以单极性脉冲方式输出。电源的电压调节是通过改变高频转换电路的电源电压来实现的，稳压电路的稳定率为1%。高频转换电路产生10-90%的脉冲电压。那么，偏压电源：直流偏压和脉冲偏压的区别有哪些?偏压电源：直流偏压和脉冲偏压的区别有哪些?偏压电源1、传统的电弧离子镀是在基底台上施加DC负偏压来控制离子轰击能量。2、衬底温度的升高不利于在回火温度较低的衬底上沉积硬质薄膜。3
一、中频电源根据需要，根据驱动工作的磁控目标的有效工作总表面积和要运行的电流密度，计算所需的总电流强度，选择中频电源。例如，如果载荷是圆柱形靶，外径为75毫米，有效长度为1100毫米，则总电流I=目标外径7.5厘米* 3.14 *有效长度110厘米*磁场圆周角a/总圆周360 *目标数2*i一般来说，磁场圆周用户是磁控靶的实际结构(本例中a=360)电流密度小，溅射率低。电流密度高，溅射速度相应增
在我们生活中几乎处处都会使用到电源，电源已经成为了现代人们生活中必不可少的一项资源，假如没有偏压电源，我们的生活以及工作将会有很大的不便，我们平常经常会听说到偏压电源，高压电源等等，电源也是分好几种种类的，那么偏压电源的应用都有哪些呢?偏压电源的作用有哪些?以下小编来给大家介绍一下。偏压电源偏压电源一般是指输出电压在五千伏特以上的电源，一般偏压电源的输出电压可达几万伏，甚至高达几十万伏特或更高。我
直流磁控溅射电源是物理气相沉积的一种。 金属、半导体、绝缘体等多种材料的制造通常采用一般的溅射法，其特点是有比较简单的设备，不难以控制，有较大的电镀面积，有较强的附着力等。 直流磁控溅射电源实现了高速、低温、低损伤。 由于高速溅射是在低气压下进行的，因此必须有效提高气体的离解率。 磁控溅射通过向靶阴极表面导入磁场，利用磁场约束带电粒子来提高等离子体密度从而增加溅射率，那么，下面一起了解下直流磁控溅
众所周知，不管是什么产品都希望膜层能够跟基体之间的结合力越发牢固，但是通常由于膜层跟基体之间不具备有相融性，不能自然的结合，这时候就要在两者之间生成一个能够使这两者可以相容的过渡进程，以便于基体跟膜层能够充分地结合。这时候就会通过镀膜设备上采用的偏压电源，在工件表面添加一个比较高的偏压电源，使得金属离子获得极大的能量，能够作用在工件表面上，形成一个可以用来过度的金属渗入到工件里面，而这个过程往往被
说起电源，可能在座的各位读者都十分的熟悉，可是大家听说过偏压电源吗?偏压电源是在中空环境中电流离子镀，或者是在其他的真空与气相沉积设备中的一个相对而言地位比较重要的铸件，其在镀膜工艺流程中为工件提供一个偏压作用。而在真空离子镀膜的过程中，特别是对带电离子的镀膜作用，不管是工具镀还是装饰镀偏压电源，它的好坏往往决定了成膜的质量，起到了一个相当关键的作用，接下来大家谈谈偏压电源它的特点以及相关的作用。
1)电弧离子镀中直流偏压的不足。电弧离子的理化率达60% ~ 90%，具有沉积速度快、膜气结合力强、镀层性好、反应沉积容易获得钛、氮化物等化合物涂层的优点，成为TiN型硬质薄膜不可替代的涂层工艺。但是传统的电弧离子镀总是直流的。下文偏压电源厂家说说电弧离子镀技术中脉冲偏压作用的基本原理。偏压电源由于一定的直流负偏压，离子不断轰击基板，从面限制了：镀膜。由于沉积温度相对较高(400 ~ 500)，低
中频电源的工作原理是由三相桥式全控整流电路将交流电整流为直流电，电抗器经过平滑后变为直流电。采用单相逆变桥将直流电流反向为一定频率(1000～8000HZ)的单相中频电源。负载由一个具有感应线圈和一个国家补偿电容主要组成并联谐振电路(也可以通过串联，一般IGBT电源设计采用串联谐振，当然IGBT电源也可以选择采用基于并联谐振)。中频电源 在正常情况下，中频电源的故障根据故障现象可分为完全无法启动和
中频电源通过以上几个方面的检查，一般可以找出大部分的故障原因，接下来可以接上控制电源，进行进一步的检查。如电源主电路合闸有手动和自动两种。对于自动合闸系统，应先暂时断开电源线，以确保主电路不凑在一起。接通控制电源后，可以检查以下几个方面。将示波器探头连接到整流晶闸管的门极和阴极上，使示波器与电源同步，按下启动按钮，看到触发脉冲波形，应该是双脉冲，幅度应该大于2V。按下停止按钮，脉冲将立即消失。重复
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